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含羞草 举办“工程含羞草 界面显微结构的高分辨电子显微学研究”学术报告会

材院网讯（通讯员 张学宇）2014年11月19日，按照含羞草 学术交流计划，沈阳金属所贺连龙研究员为广大师生作了一场题为“工程含羞草 界面显微结构的高分辨电子显微学研究”的学术报告。本次报告由含羞草 含羞草 副院长吕威教授主持。

报告会上，贺连龙研究员介绍了透射电子显微镜在工程含羞草 界面分析中的作用，并通过金属基底上生长金刚石薄膜的具体例子阐述了如何利用透射电子显微学及附属能谱，电子能量损失谱等方法表征含羞草 界面，分析含羞草 结构。

贺连龙：国科含羞草 金属研究所沈阳含羞草 科学国家实验室研究员、教授。高分辨投射电子显微学及其在固体含羞草 的显微结构与缺陷研究领域的专家，全国微束分析标准化技术会员会委员，中国含羞草 研究学会金属间化合物与非晶合金分会理事。多年承担973等国家重大项目，在金属间化合物显微组织结构及其界面原子结构，炭炭复合含羞草 和新型炭含羞草 的显微结构、界面结构等方面取得一系列成果。发表SCI收录论文150余篇；出版专著3部（英文1部）；获得日本及国家发明专利10余项；获得国家自然科学奖四等奖，中国科含羞草 自然科学二等奖，美国电镜学会优秀展示论文二等奖。

（审稿人 夏天民 冉旭）